韓-中에 동일 발명 특허 출원시 우선 공동심사
특허청‧지식산권국, 상표‧지재권 보호 위한 협력 체계 강화 한국과 중국에 동일 발명 특허 출원을 신청할 경우 고품질 심사를 통해 빠르게 등록돼 보호받을 수 있어 국내 화장품 기업들의 중국 상표‧지재권 특허 취득이 더욱 안전해질 전망이다. 박원주 특허청장은 지난 30일 서울 그랜드워커힐 호텔에서 션창위 중국 국가지식산권국장과 회담을 갖고 한·중 지재권 협력 확대를 위한 다양한 협력사업에 합의, 양국은 고품질 특허를 서로 빠르게 취득하고 상표 보호를 위한 정부 간 협력 인프라를 확충하는 등 지재권 보호 협력 체계를 강화할 방침이다. 먼저 한·중 간 특허공동심사프로그램(CSP)이 내년 1월 1일부터 시행된다. CSP는 양국에 동일 발명을 특허출원한 출원인의 신청이 있을 경우 양국 특허청 간 선행기술정보를 공유하고 다른 출원 건보다 우선해서 심사해 주는 프로그램이다. 이 프로그램을 활용하면 한국과 중국에 공통으로 출원되는 특허가 고품질 심사를 통해 빠르게 등록돼 보호받게 된다. 내년 1월 한·중 CSP가 개시되면 한국은 중국과 CSP를 시행하는 최초의 국가가 된다. 현재 시행중인 CSP는 한국-미국, 미국-일본 뿐이다. 상표 분야와 지재권 보호 분야의 협력 체계도